全球半导体观察12月8日消息,韩国存储厂商SK海力士于昨日宣布,已完成176层NAND闪存的开发。目前,SK海力士已开始向客户提供样品,并计划于2021年中期开始批量生产。
SK海力士是全球范围内主要的存储厂商,在NAND Flash市场排第四位。今年三季度,SK海力士在该领域的市占率为11.3%。
产品方面,据TrendForce集邦咨询分析师叶茂盛介绍,SK海力士当前仍致力于推动客户采用成本较佳的96及128层产品方案,其中128层产品的产出预计到年底前可以达到30%。
SK海力士官网显示,最新开发的NAND闪存为4D NAND第三代,比上一代128层产品提高了35%以上生产率,成本竞争力有所提升。此外, 公司明年中开发出的176层NAND Mobile Solution产品可使数据的最大读取速度提高约70%, 使数据写入速度提高约35%。
除了智能手机,新产品还可用于个人电脑和服务器配备的存储器固态硬盘(SSD)等。目前,SK海力士已开始向客户企业提供样品,计划2021年中期开始量产。
“堆叠竞赛”提速
NAND闪存制造的技术实力可以通过设备中堆叠的存储单元层数来衡量,更多的层数意味着更高的容量和更大的密度。NAND闪存市场竞争激烈,围绕堆叠技术的较量也一直非常紧张。
整体来看,继过去一年堆叠技术突破100层之后,各厂商开始往更高层数上推进。
作为NAND闪存市场的重要玩家,美光率先开发出了176层产品。今年11月,美光宣布成功开发出了176层产品,与128层产品相比,读写延迟降低了25%以上。
全球最大NAND闪存制造商三星电子的第七代V-NAND正处于开发阶段,预计将于明年量产,但三星尚未公布其层配置。三星电子高级副总裁韩进满表示:“我们的第六代V-NAND采用单堆叠技术最多可具有128层,采用双堆栈技术后,256层堆叠是可能的。”
三星方面还表示,芯片中堆叠的实际层数可能会根据消费者的需求和市场状况而变化。
封面图片来源:SK海力士