“薄膜生长”国产实验装置在武汉验收

发布时间:2023-10-27  

据武汉市科技局官微消息,日前,芯片生产中的重要设备——“”实验装置在武汉通过验收,这项原创性突破可提升芯片质量。

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据悉,是芯片生产的核心上游。这套自主研制的“”国产实验装置,由武汉大学刘胜教授牵头,联合华中科技大学、清华大学天津高端装备研究院、华南理工大学、中国科学院半导体研究所、中国科学院微电子研究所等多家单位,历时5年完成。

这套“薄膜生长”国产实验装置由“进样腔”、“高真空环形机械手传样腔”等多个腔体和“超快飞秒双模成像系统”、“超快电子成像系统”等多个构件组成。据武汉大学副研究员吴改介绍,这套装置将硅、蓝宝石等衬底放入进样腔,通过“高真空环形机械手”将衬底转运至功能不同的腔体,实现衬底的预处理、薄膜生长、等离子体清洗等过程。

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