今天,高通官方宣布,将使用三星的10nm FinFET打造自家的新旗舰处理器:骁龙835。
高通表示,与上一代14纳米FinFET工艺相比,三星10纳米工艺可以在减少高达30%的芯片尺寸的基础上,同时实现性能提升27%或高达40%的功耗降低。
因此,通过10nm工艺加持,骁龙835处理器将具有更小的芯片尺寸,在一定程度上能够方便手机厂商节省机身内部空间,获得更合理的主板布局方式。
目前,骁龙835已经投入生产,预计搭载骁龙835的商用终端将于2017年上半年出货。
此外,高通宣布骁龙820/21处理器已经拥有超过200款设计发布或正在开发中,骁龙835正是其后续产品。
但遗憾的是,高通目前并没有公布骁龙835的具体规格。
责任编辑:mooreelite
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