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研发客服近期，媒体报道三星已在其最新3D NAND的光刻工艺中减少了厚光刻胶（以下简称“PR”）的使用量，从而大幅节省了成本。
据悉，三星优化了生产过程中的每分钟转数和涂布机转速，在保持最佳蚀刻条件的同时，减少了PR的使用，在保持涂层质量的同时大幅节省了成本。PR应用后的蚀刻工艺已经得到改进，尽管材料使用量减少，但仍能获得同等或更优的结果。
报道指出，三星已将用于3D NAND生产的PR使用量减少了一半。
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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