9月28日,盛美半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“盛美上海”),宣布其对300mm Ultra Fn立式炉干法工艺平台进行了功能扩展,研发出新型Ultra Fn A立式炉设备。该设备的热原子层沉积(ALD)功能丰富了盛美上海立式炉系列设备的应用。
盛美上海还宣布,首台Ultra Fn A立式炉设备已于本月底运往中国一家先进的逻辑制造商,并计划于2023年底通过验证。
图片来源:盛美上海
盛美上海董事长王晖表示,“随着逻辑节点的不断缩小,越来越多的客户为满足其先进的工艺要求,努力寻找愿意合作的供应商共同开发。ALD是先进节点制造中增长最快的应用之一,是本公司立式炉管系列设备的关键性新性能。得益于对整个半导体制造工艺的深刻理解和创新能力,我们能够迅速开发全新的湿法和干法设备,以满足新兴市场的需求。全新ALD立式炉设备基于公司现有的立式炉设备平台,搭载差异化创新设计,软件算法优化等实现原子层吸附和均匀沉积。”
据介绍,盛美上海新型热ALD设备可沉积氮化硅(SiN)和碳氮化硅(SiCN)薄膜。出厂的首台Ultra Fn A设备将用于28纳米逻辑制造流程,以制造侧壁间隔层。此工艺要求刻蚀速率极低,且台阶覆盖率良好,与其他实现模式相比,Ultra Fn A立式炉设备在模拟中实现了均一性的改善。
封面图片来源:拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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