1月9日,据中国电科48所官微消息,中国电科48所立式氧化炉近日完成批量交付。
立式氧化炉是6-8英寸碳化硅功率器件及硅基集成电路制造关键工艺设备,主要用于高温氧化及退火工艺。
据悉,氧化退火对于碳化硅功率器件制造至关重要。氧化退火处理能够优化碳化硅表面的氧化层结构,形成均匀、高质量的SiO₂栅氧化层。
这有助于提升器件的击穿电压、降低漏电流和噪声,从而提高器件的性能和可靠性。通过氧化退火,可以填补晶格缺陷,降低残余应力,提高氧化物和晶体的结合质量,改善电学性能,这对于提高碳化硅功率器件的整体性能和稳定性具有重要意义。
在高温下,碳化硅晶体中的原子会发生移动,减少晶格缺陷,从而提高其热稳定性和热传导性能。氧化退火还能减少氧化物含量,进一步增强其耐热性能。
目前,国内已有部分设备厂商涉足碳化硅氧化炉细分市场,除中国电科48所外,还有北方华创、拉普拉斯等企业。
封面图片来源:拍信网
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