据外媒报道,韩国警方近日逮捕了三星System LSI部门的一位李姓高管,原因是,而对方是三星电子的直接竞争对手(具体是谁未公开)。
三星14nm工艺非常卓越,GF、AMD等厂商对其非常依赖。掌握了这项工艺,甚至更先进的10nm工艺,也就掌握了未来芯片行业的话语权。
一直以来,三星在半导体工艺方面技术精湛,一路高歌猛进,虽然在这方面英特尔处于绝对的王者地位,但三星的突起还是令其感到了不小的压力。
14/10nm究竟是什么?
这还得从处理器的基本组成说起。一般来说,一颗微处理器是由不同材料制成的许多“层”堆叠起来的电路,里面包含了晶体管、电阻器、以及电容器等微小元件。
这些微小元件用肉眼很难看清楚,因为它们的尺寸非常之小,并且数量之多,密集的让人难以想象。
这些小元件整齐的排列在一块“板子”上,它们相互之间都有缝隙,这个缝隙实质就是元件与元件之间的距离,这个距离一般用毫微米进行衡量。后来纳米概念诞生后,就一直沿用“纳米”(nanometers)来描述这个距离。
也就是说,14/10nm其实就是芯片上元件间的间距,这个间距越小,排列在芯片上的元件就越多。这意味着性能更加强大,能效表现更为优异。
这也是英特尔、三星等一直追求14nm、10nm甚至是7nm的原因。
14nm的诞生
在2014年,当大部分厂商还在研究22nm的FinFET工艺时,英特尔已经推进到了14nm工艺。在芯片行业的推进上,英特尔可以说是独步天下。
从2007年的45nm工艺,到2009年的32nm工艺,到2011年的22nm工艺,再到2014年的14nm工艺,无与伦比的先进制造工艺,让全球厂商为之眼红。
然而,看似风光的英特尔,在推进过程中也遇到不少难题。据英特尔称,他们本该2013年底时就会推出14nm的测试芯片,并于2014年开始量产,但实际比原推进计划晚了几个季度。由于14nm工艺良品率初期低得要命,直到2014年第二季度末才达到量产标准。
三星的14nm工艺
在2014年底,也就是英特尔的14nm工艺推出没几个月,三星就直接宣布进入14nm工艺。
这前所未有的举动在业界瞬间轰动了起来,甚至连英特尔都坐不住了。要知道,在这之前,英特尔的制造工艺在业内是处于绝对领先的地位的。
三星此举让同为竞争对手的台积电也自愧不如,但随后又爆出猛料,称台积电前员工加入三星后,将自家的28nm工艺泄露给了三星,这对于三星14nm工艺进度起了至关重要的作用。
这样说也无可厚非,毕竟三星可是跳过了20nm,直接进入了14nm工艺,并且据台积电称,三星的14nm工艺带有台积电的技术特性。
看来,三星的14nm工艺并不纯正。
除此之外,台积电高管还爆料,最早采用FinFET的16纳米工艺,原本计划跟随英特尔,称为20纳米FinFET。因为该工艺的电晶体最小线宽(half-pitch)与量产的前一代20纳米传统电晶体工艺差不多,只是换上全新的FinFET电晶体。
然而,三星抢先命名为“14nm”!三星的出现,扰乱了市场的命名的惯例。
10nm
在14nm上逐渐赶上英特尔的三星,在10nm的研究上,几乎和强大的竞争对手英特尔站在了同一起跑线上。
然而,10nm的研究,似乎并不顺利。
按照英特尔的计划,10nm预计在2015年就能推出,由于14nm工艺的跳票,打乱了时间节点,并且10nm的研究中可能遇到了不小的难题。
目前,英特尔10nm工艺已经开始试产,并且表示将在2017年上半年量产10nm,在下半年发布10nm产品。
反观三星,虽然在去年展示了10nm的晶圆,并表示将在2017年量产10nm工艺,但是到目前为止,几乎没什么动静。
与三星同为竞争对手的台积电却是非常高调,宣布将在今年底开始量产10nm。这一点也是可以理解,毕竟与三星同为晶圆代工,谁先胜出,谁就能得到更多的代工业务。
不过,有专业人士透露,台积电的16纳米等于英特尔的20纳米、10纳米等于英特尔的12纳米……在这一方面,台积电也是积极承认。
纳米工艺的进步,使得我们在同样大小的芯片上,能够感受更强大的性能;在运行速度更快的同时,也更加省电;这些更小的晶体元件,只需要更低的导通电压,能效也会随之提升;最为重要的是,组件越小,同一片晶圆可切割出来的芯片就可以更多。即使更小的工艺需要更昂贵的设备,其投资成本也可以被更多的晶片所抵消。
未来,7nm、5nm甚至更小的纳米制造工艺也会相继出现。虽然有专家分析,目前10nm工艺或许将成为硅材料晶体管的物理极限,但英特尔等厂商不会停止不前,因为,他们对于“极限”的追求是永无止境的。
相关文章