技术咨询
代买器件
商务客服
研发客服近日，拓荆科技公布2024年年度业绩预告，经财务部门初步测算，预计公司2024年年度实现营业收入40亿元至42亿元，同比增长47.88%至55.27%；
回顾2024年，拓荆科技在产品量产规模上取得了重大突破。作为国内高端半导体设备领域的领军企业，公司凭借在产品技术创新、客户资源、售后服务等方面的核心竞争优势，PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深宽比沟槽填充CVD（Flowable CVD）及混合键合设备等系列产品量产规模不断扩大，持续获得客户订单。2024年度，公司出货超过1000个设备反应腔，创公司历史年度新高。
在研发创新方面，拓荆科技2024年同样成果丰硕。公司持续保持高强度的研发投入，坚持自主创新，Flowable CVD设备、PECVD Bianca工艺设备、PE-ALD SiN工艺设备、HDP CVDFSG、HDP CVDSTI工艺设备、键合套准精度量测设备等一系列新产品及新工艺经下游用户验证导入，实现了产业化。同时，新型设备平台PF-300M、PF-300T Plus及新型反应腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工艺设备顺利通过客户验证，并取得客户重复订单，实现大批量出货，进一步提升了公司产品性能及核心竞争力，助力公司收入稳步增长。
从市场环境来看，我国近年来在半导体设备领域发展较快，但高端半导体设备自给率仍较低，这为包括拓荆科技在内的国内半导体设备厂商提供了巨大的成长机遇。
另外，在先进封装领域，AI等技术的发展驱动下，先进封装行业加速发展，成为景气度最高的细分赛道。拓荆科技积极布局，晶圆对晶圆键合产品Dione300及芯片对晶圆混合键合前表面预处理产品Propus均实现产业化，且获得客户量产重复订单，新品键合套准精度量测设备也实现了产业化。
封面图片来源：拍信网