世界先进董座方略宣布,未来公司在化合物半导体端不会缺席,旗下氮化镓(GaN)今年实现量产,而随着碳化硅(SiC)衬底价格下降,应用会更广。
方略提到,世界先进的氮化镓业务已经运作了7~8年,今年实现量产。在碳化硅方面,随着衬底价格往下降,其应用范围有望进一步扩大。
值得一提的是,今年,世界先进与汉磊科技签订了战略合作协议,后者将利用世界先进的8英寸晶圆厂进行代工生产。这一合作预计将于2026年下半年开始量产。
他进一步点出,最近在传出碳化硅降价的部分,是针对衬底端,至于做生产代工的制程端,则没有降价。
方略指出,碳化硅成本很高的主要原因是衬底昂贵,而目前市场上衬底的产能过剩问题也导致了价格的下降。尽管衬底的价格有所降低,但晶圆厂在生产制造环节的成本并未随之减少。
此外,碳化硅目前尚未广泛应用8英寸晶圆,这限制了其成本效益的进一步提升。随着衬底价格的下降,碳化硅的应用范围有望进一步扩大,这对碳化硅晶圆代工厂而言是有利的——厂商能够以更低的价格购买衬底,进而降低生产成本。
方略最后表示,8英寸晶圆代工厂在CMOS技术与设备方面确实存在落后现象,与12英寸晶圆厂竞争时处于不利地位,且制程能力也相对落后。
不过,相比于化合物半导体行业过去使用的4/5/6英寸晶圆而言,8英寸晶圆厂在制程设备和技术方面具有明显优势。并且,短时间也未看到12英寸晶圆厂有进入化合物半导体领域的趋势。
因此,对于世界先进这样的8英寸晶圆代工厂来说,进军第三代半导体领域将是一个具有竞争优势的战略选择。